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[发明专利]剥离剂-CN200610108623.6有效
发明人： R·L·布雷纳德;R·L·奥格;J·A·拉绍斯基 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2006-07-28 - 公布日： 2007-02-21 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：提供了可以有效地从电子器件之类的基材上除去聚合材料的组合物和方法。这些组合物和方法特别适合用来在等离子蚀刻过程之后从电子器件上除去聚合残余物。
剥离

[发明专利]剥离剂-CN200610141621.7无效
发明人： R·L·奥格 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2006-09-28 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：提供了可以从电子器件之类的基材上除去聚合物材料和氧化铜的组合物和方法。这些组合物和方法特别适合用来在等离子体蚀刻过程之后从电子器件上除去聚合物残余物。
剥离

[发明专利]剥离剂-CN94110502.4无效
发明人：李加宏;柏劲松;王爱力;赵继华;陈建棠;刘业唐;王卫东 -专利权人：山东铝业公司;山东省淄博市人民检察院
申请日： 1994-03-26 - 公布日： 2000-05-17 - 主分类号： C09K3/00 文献下载
摘要：本发明的剥离剂，特点是由酒石酸钠，乙二胺四乙酸钠，丙三醇、苄胺基苯磺酸钠和去离子水配制而成。该种剥离剂能够快捷，完好地将用办公胶水或浆糊粘固在一起的多张票据等剥离，剥离后的各张票据完好无损，上面的字迹清晰可辩。
剥离

[发明专利]剥离剂、及其剥离方法、剥离剂循环设备及剥离剂控制装置-CN03154358.8有效
发明人：朴祯文;吴昌一;白志钦;赵俊衍;李相大 -专利权人：东进化成工业株式会社
申请日： 1999-08-11 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：当制造半导体器件和液晶显示(LCD)时，从衬底上剥离抗蚀剂的剥离剂，使用剥离剂剥离抗蚀剂的剥离方法，剥离剂循环器件及剥离剂控制装置。剥离剂包括有机胺化合物、质子二醇醚化合物、非质子多极性化合物和烷基吡咯烷酮化合物，在腐蚀工艺期间低温下短时间内可以容易地剥离已经历了化学和/或物理变化的抗蚀剂层，同时几乎不腐蚀下金属线。此外，由于加热期间剥离剂蒸发很少，因此剥离剂的更换周期变长。此外，剥离剂可以容易地通过蒸发和成分补充再生。具有权利要求12所要求保护结构的剥离剂再循环设备可以容易地通过蒸发和成分补充再生废剥离剂。具有权利要求16所要求保护结构的剥离剂控制装置可以自动地控制剥离剂的组分，并自动地将剥离剂提供到剥离设备。
剥离及其方法循环设备控制装置

[发明专利]剥离剂、及其剥离方法、剥离剂循环设备及剥离剂控制装置-CN99119693.7有效
发明人：朴祯文;吴昌一;白志钦;赵俊衍;李相大 -专利权人：东进化成工业株式会社
申请日： 1999-08-11 - 公布日： 2000-03-29 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：当制造半导体器件和液晶显示(LCD)时,从衬底上剥离抗蚀剂的剥离剂,使用剥离剂剥离抗蚀剂的剥离方法,剥离剂循环器件及剥离剂控制装置。剥离剂包括有机胺化合物、质子二醇醚化合物、非质子多极性化合物和烷基吡咯烷酮化合物,在腐蚀工艺期间低温下短时间内可以容易地剥离已经历了化学和/或物理变化的抗蚀剂层,同时几乎不腐蚀下金属线。此外,由于加热期间剥离剂蒸发很少,因此剥离剂的更换周期变长。此外,剥离剂可以容易地通过蒸发和成分补充再生。具有权利要求12所要求保护结构的剥离剂再循环设备可以容易地通过蒸发和成分补充再生废剥离剂。具有权利要求16所要求保护结构的剥离剂控制装置可以自动地控制剥离剂的组分,并自动地将剥离剂提供到剥离设备。
剥离及其方法循环设备控制装置

[发明专利]光致抗蚀剂剥离装置、再循环光致抗蚀剂剥离剂的方法-CN200710089842.9无效
发明人：朴弘植;郑钟铉;洪瑄英;金俸均;申原硕;李炳珍 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2007-04-05 - 公布日： 2007-10-10 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂PR剥离装置，其可以再循环光致抗蚀剂剥离剂且在过滤器操作期间实现连续的过滤动作。该PR剥离装置包括：PR剥离槽，用于接收具有PR图案的基板且用于该PR图案的剥离；PR剥离剂回收管，用于接收来自PR剥离槽的PR剥离剂；两个或更多过滤器单元，用于过滤通过PR剥离剂回收管返回的PR剥离剂；以及PR剥离剂供给管，用于向PR剥离槽供给过滤的PR剥离剂。所述两个或更多过滤器单元彼此并联连接在PR剥离剂回收管和PR剥离剂供给管之间。
光致抗蚀剂剥离装置再循环方法

[发明专利]基于近红外分光计控制光致抗蚀剂剥离过程的方法和再生光致抗蚀剂剥离剂成分的方法-CN01811689.2有效
发明人：朴美仙;金钟民;朴兑濬;姜哲佑;任润吉 -专利权人：东进半导体化学株式会社
申请日： 2001-03-27 - 公布日： 2003-08-27 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：在对制造半导体装置或液晶显示器的光致抗蚀剂剥离过程进行控制的控制方法中，首先利用NIR分光计对光致抗蚀剂层剥离过程中使用的剥离剂成分进行分析。然后，通过将分析的成分与基准成分进行比较，确定剥离剂的状态。如果剥离剂的寿命已经结束，则利用新剥离剂替换该剥离剂。相反，如果该剥离剂的寿命还没有结束，则将该剥离剂输送到下一个光致抗蚀剂剥离过程。还可以将该分析技术以同样方式应用于光致抗蚀剂剥离剂再生过程。
基于红外分光计控制光致抗蚀剂剥离过程方法再生成分

[发明专利]柔性器件用粘着片、柔性层叠体及柔性器件-CN202211558097.9在审
发明人：小鲭翔;仓田雄一 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C09J7/10 文献下载
摘要：本发明提供一种即使具有用于柔性构件的贴合等的柔软的粘着剂，也抑制了剥离轻剥离型剥离片时的粘连，且抑制了剥离重剥离型剥离片时的粘着剂层端部的尺寸变化的粘着片。所述粘着片为具有粘着剂层与夹持粘着剂层的两个主面的第一剥离片及第二剥离片的粘着片，其中，构成粘着剂层的粘着剂的23℃下的储能模量为0.2MPa以下，以10m/分钟的剥离速度从粘着剂层上剥离时的第一剥离片的剥离力比以10m/分钟的剥离速度从粘着剂层上剥离时的第二剥离片的剥离力大且剥离力差大于24mN/25mm，以2.4m/分钟的剥离速度从粘着剂层上剥离时的第一剥离片的剥离力为150mN/25mm以下。
柔性器件粘着层叠

[发明专利]抗蚀剂剥离装置-CN03178649.9无效
发明人：中川俊元;小川修;森田悟;小早川泰之;菊川诚 -专利权人：长濑产业株式会社;株式会社平间理化研究所;长濑CMS科学技术株式会社
申请日： 2003-07-18 - 公布日： 2004-02-25 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗蚀剂剥离装置，具有收容粘附抗蚀剂的基板、向该基板上供给抗蚀剂剥离液的抗蚀剂剥离室，与前述抗蚀剂剥离室相连接、导入含该抗蚀剂剥离室内的抗蚀剂剥离液成分的混合气、分离该混合气中的该抗蚀剂剥离液成分的气液分离部分，与前述气液分离部分相连接、把分离的前述抗蚀剂剥离液成分供给前述抗蚀剂剥离室内的回收抗蚀剂剥离液供给部分。
抗蚀剂剥离装置

[发明专利]采用纳米过滤的抗蚀剂剥离液连续使用系统-CN200880020488.7无效
发明人：住田正直;林秀生 -专利权人：东亚合成株式会社
申请日： 2008-06-27 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明要解决的课题是提供：不进行剥离液交换、即使进行长时间剥离，用于抗蚀剂剥离的剥离液中的抗蚀剂成分的浓度处于一定浓度范围内的系统。采用剥离液进行正型抗蚀剂剥离时，剥离液中溶解的抗蚀剂成分，采用特定的陶瓷过滤器(5)进行错流过滤使其减少。而且，剥离工序生成的含抗蚀剂成分的剥离液，在过滤工序进行处理，副产的抗蚀剂成分浓度被浓缩的浓缩剥离液适当排至体系外，向被除去抗蚀剂成分的处理剥离液中适当添加新剥离液后的剥离液，再度于剥离工序中使用，从而完成抗蚀剂剥离系统
采用纳米过滤抗蚀剂剥离连续使用系统

[发明专利]剥离片-CN201780064584.0在审
发明人：森裕一;佐藤庆一;深谷知巳 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2017-10-17 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种剥离片，其具备基材与设置于所述基材的至少一面侧的剥离剂层，所述剥离剂层由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有：不含聚硅氧烷骨架的阳离子聚合性化合物、剥离成分及阳离子聚合引发剂，所述剥离剂组合物中，所述阳离子聚合性化合物的掺合量比所述剥离成分及所述阳离子聚合引发剂各自的掺合量多。该剥离片为具有良好的剥离性的新型的剥离片。
剥离片剥离剂组合物阳离子聚合性化合物阳离子聚合引发剂剥离剂层基材剥离聚硅氧烷骨架剥离性

[发明专利]抗蚀剂剥离剂组合物-CN201510574060.9有效
发明人：李喻珍;高京俊;金正铉;金圣植 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2015-09-10 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开一种抗蚀剂剥离剂组合物。该抗蚀剂剥离剂组合物表现出优异的剥离能力，并能使在抗蚀剂剥离工艺中金属布线的腐蚀减到最小并且防止在基板上形成污渍。本发明还提供一种利用该抗蚀剂剥离剂组合物来剥离抗蚀剂的方法。
抗蚀剂剥离组合

[发明专利]表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件-CN201610886204.9在审
发明人：小林弘幸;春日充;新见洋人;铃木千惠;五十岚智美;木俣绘美子;林益史 -专利权人：藤森工业株式会社
申请日： 2016-10-11 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： C09J7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、抗静电助剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电助剂为聚醚改性硅酮，抗静电剂成分与抗静电助剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压
表面保护膜贴合光学部件

[发明专利]表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件-CN201610886407.8有效
发明人：小林弘幸;春日充;新见洋人;铃木千惠;五十岚智美;木俣绘美子;林益史 -专利权人：藤森工业株式会社
申请日： 2016-10-11 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： C09J7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，其通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)的表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物上剥离时的剥离静电压。
表面保护膜贴合光学部件

[发明专利]表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件-CN201610888772.2有效
发明人：小林弘幸;春日充;新见洋人;铃木千惠;五十岚智美;木俣绘美子;林益史 -专利权人：藤森工业株式会社
申请日： 2016-10-11 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： C09J7/25 文献下载
摘要：本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物的污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不会经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点30～80℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压
表面保护膜贴合光学部件

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